1、“擴散爐”顧名思義就是用來擴散的爐子，在晶體矽太陽能電池的生產制造行業中，自然是用於對矽基片的擴散摻雜，制備P-N結結構。至於矽片的熱氧化，只不過是擴散摻雜技術工藝的壹個中間過程，是為了提高擴散工藝的穩定性和均勻性而設計的。但是壹般氧化層厚度極薄，與半導體晶圓工藝制程中的氧化完全不同，因此這裏經過熱氧化的矽片只是中間的壹個狀態，壹般並不單獨作為壹個工藝單元。
2、“爐管”即“TUBE”，顯然只有管式爐才有爐管只稱謂，板式則稱為“腔”。除了擴散爐，PECVD也有管式設備，基本上和擴散爐的爐管是同壹個概念。
——另外，國產PECVD以管式居多。