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哥們,米勒平臺形成原因可否給解釋壹下。。。謝謝了

1.彌勒效應是指MOSFET的D、G的極間電容Crss在開關動作期間引起的瞬態效應。

這可以看成是壹個電容負反饋,驅動前,Crss上是高電壓,當驅動波形上升

到門檻電壓時,MOSFET導通,D極電壓急劇下降,通過Crss拉低G腳驅動電壓,

如果驅動功率不足,將在驅動波形的上升沿門檻電壓附近留下壹個階梯。

或者2.在MOS導通的瞬間,會經過米勒效應區(可理解為放大區),

輸入電容Cgs=C1+C2,此時的C1不再是靜態的電容,而是C1=Cdg(1+A),A是放大系數。

當驅動電流(Ig=Cgs*dVds/dt)給Cgs充電時,由於米勒效應等效到輸入端的電容會放大N倍,

輸入電容突然增大,所以導致了充電電壓的壹個平臺,有時甚至會有壹個下降尖峰趨勢平臺(如上圖),

而這個平臺增加了MOS的導通時間,造成了我們通常所說的導通損耗。

其實米勒效應描述的就是電子器件中輸出和輸入之間的電容反饋。

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