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什麽是pvd工藝?

1,PVD(物理氣相沈積)是指通過物理過程將物質從源頭轉移到基底表面的過程。其作用是噴塗壹些具有特殊性能(高強度、耐磨、散熱、耐腐蝕等)的顆粒。)在性能較低的矩陣上,使矩陣具有更好的性能。?

2、PVD(可編程電壓檢測器),即可編程電壓監控器。在STM32ARM芯片中用於監控電源電壓。當電源電壓下降到給定閾值以下時,會產生中斷,通知軟件做應急處理。當電源電壓恢復到給定閾值以上時,它還會產生壹個中斷,通知軟件電源恢復。

擴展數據

物理氣相沈積技術具有工藝簡單、改善環境、無汙染、耗材少、成膜均勻致密、與基底結合牢固等優點。該技術廣泛應用於航空航天、電子、光學、機械、建築、輕工、冶金、材料等領域,可用於制備具有耐磨、耐腐蝕、裝飾、導電、絕緣、光導、壓電、磁性、潤滑、超導等特性的薄膜。

隨著高新技術和新興產業的發展,物理氣相沈積技術出現了許多新的先進亮點,如多弧離子鍍與磁控濺射兼容技術、大矩形長弧靶與濺射靶、非平衡磁控濺射靶、雙靶技術、多弧沈積卷繞塗覆帶狀泡沫技術、帶狀纖維織物卷繞塗覆技術等。所用的塗布設備正朝著計算機自動化和大規模工業規模發展。

百度百科-PVD(物理學)

百度百科-PVD(計算機)

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