變硬的只是鋁材外面那層氧化膜，硬度壹般在HV300左右，硬質氧化膜（低溫氧化膜）我沒記錯的話可以達到HV500左右。
氧化膜的孔徑在100nm~200nm之間，氧化膜厚度10微米左右，孔隙率20%左右，孔距300~500nm之間。氧化膜的截面圖表明氧化膜孔基本上是管狀結構，氧化膜發生溶膜反應基本上是在孔的底部發生的。
而壹般的硫酸直流陽極氧化膜的孔徑是20nm左右，如果是12微米的氧化膜，那是多深的細管狀結構，假設這是壹個直徑1m的井，那麽它的井深將有600m深。
擴展資料氧化膜的絕大部分優良特性，如抗蝕、耐磨、吸附、絕緣等性能都是由多孔外層的厚度及孔隙率所決定的，然而這兩者卻與陽極氧化條件密切相關，因此可通過改變陽極化條件來獲得滿足不同使用要求的膜層。
膜厚是陽極氧化制品壹個很主要的性能指針, 其值的大小直接影響著膜層耐蝕、耐磨、絕緣及化學著色能力。在常規的陽極氧化過程中，膜層隨著時間的增加而增厚。
在到最大厚度之後，則隨著處理時間的延長而逐漸變薄, 有些合金如AI-Mg、AI-Mg-Zn合金表現得特別明顯。因此，氧化的時間壹般控制在逹最大膜厚時間之內。
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